Công nghệ Silica bốc khói

​Hiệu suất cao

Công nghệ Silica bốc khói

Quy trình sản xuất khép kín hoàn toàn;

Hệ thống điều khiển quá trình đốt tự động;

Tỷ lệ trộn nguyên liệu đơn hoặc nhiều;

Nhãn hiệu sản phẩm đa dạng và năng lực sản xuất dây chuyền đơn cao; Phòng thí nghiệm nghiên cứu và phát triển ứng dụng.

Công nghệ của dự án này được tối ưu hóa, đổi mới trên cơ sở tiếp thu kinh nghiệm công nghệ tiên tiến của nước ngoài nên chi phí đầu tư cho thiết bị thấp hơn.

So với công nghệ quy trình mở trong nước, ưu điểm là rất lớn và hoàn toàn có thể đạt đến trình độ kỹ thuật của doanh nghiệp có vốn đầu tư nước ngoài:

A、Năng lực sản xuất hàng năm cao của một dây chuyền: ;;::5000 tấn

(silicon tetrachloride làm nguyên liệu);

B、Sự đa dạng của nguyên liệu thô phản ứng, STC, TCS, MTS có thể được trộn theo bất kỳ tỷ lệ nào để tạo ra silica bốc khói;

C、Quy trình sản xuất khép kín: từ nguyên liệu thô đến sản phẩm đều có hệ thống khép kín hoàn toàn, tạp chất trong sản phẩm rất ít;

D、Điều khiển tự động các thiết bị sản xuất, an toàn và đối lưu­hoạt động liên tục;

E、Chi phí vận hành và bảo trì thấp và việc bảo trì­tài trợ được lên kế hoạch mỗi năm một lần;

F、Thương hiệu sản phẩm hoàn thiện, từ sản phẩm cấp thấp đến sản phẩm cao cấp đáp ứng nhu cầu của các lĩnh vực khác nhau,

G、Bảo vệ và an toàn môi trường: xử lý vô hại ba chất thải, môi trường làm việc sạch sẽ và an toàn.

Nguyên liệu thô và phương trình phản ứng

Nguyên liệu thô chính để sản xuất silica bốc khói là chlorosilane, hydro và không khí. Các loại chlorosilane chính được sử dụng trong quá trình này bao gồm silicon tetrachloride (SiCl₄), trichlorosilan (SiHCl₃), metyltrichlorosilan (CH₃SiCl₃) và dichloromethylsilane (CH₃HSiCl₂).

Silicon Tetraclorua (SiCl₄) : SiCl4​+2H2​+O2​→SiO2​+4HCl

Triclorosilan (SiHCl₃) : SiHCl3​+1,5H2​+O2​→SiO2​+3HCl

Metyltrichlorosilan (CH₃SiCl₃) : CH3​SiCl3​+2H2​+3O2​→SiO2​+3HCl+2H2​O+CO2​

Diclometylsilan (CH₃HSiCl₂) : CH3​HSiCl2​+H2​+3O2​→SiO2​+2HCl+2H2​O+CO2

Tóm tắt quá trình phản ứng:

Trong mọi trường hợp, chlorosilane (SiCl₄, SiHCl₃, CH₃SiCl₃, hoặc CH₃HSiCl₂) trải qua quá trình thủy phân với sự có mặt của hydro và oxy ở nhiệt độ cao (1500°C đến 2000°C). Các phản ứng tạo ra các hạt silica mịn (SiO₂), hydro clorua (HCl) và các sản phẩm phụ khác như nước (H₂O) và khí cacbonic (CO₂) tùy thuộc vào loại chlorosilane được sử dụng. Những phản ứng này diễn ra trong môi trường ngọn lửa. Trong mọi trường hợp, chlorosilane (SiCl₄, SiHCl₃, CH₃SiCl₃, hoặc CH₃HSiCl₂) trải qua quá trình thủy phân với sự có mặt của hydro và oxy ở nhiệt độ cao (1500°C đến 2000°C). Các phản ứng tạo ra các hạt silica mịn (SiO₂), hydro clorua (HCl) và các sản phẩm phụ khác tạo ra, dẫn đến sự hình thành silica bốc khói, sau đó được thu thập và xử lý để sử dụng trong các ứng dụng công nghiệp khác nhau.